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Coater per rivestimento a sputtering ionico magnetron ad alto vuoto CC o RF da laboratorio

Persona di contatto:Gilia Ding


E-mail: gilia@inthelaboratory.com

Tel:+86 177 5900 4070
Telefono:+86-177-59004070
Whatsapp: +86 177 5900 4070
Wechat:Dingqiuna



  • Oggetto numero.:

    LITH-650MH
  • Pagamento:

    L/C, T/T, Western Union, Credit Cards, Paypal
  • Tempi di consegna:

    7 days
  • Conformità:

    CE Certified
  • Garanzia:

    Two years limited standard warranty
  • Dettagli del prodotto

Lab DC o RF High Vacuum Magnetron Ion Sputtering Coating 


Rivestitore  

 



introduzione

High Vacuum  Magnetron Ion Sputtering Coater  è ideale e progettato per la scienza dei materiali e la preparazione dei campioni. È ampiamente utilizzato per la maggior parte delle università e degli istituti di ricerca scientifica di scienza e ingegneria dei materiali per rivestire, per metalli, ceramiche, semiconduttori, isolanti o altri tipi di preparazione del materiale della membrana.

High Vacuum Magnetron Ion Sputtering Coater fornisce l'ambiente di sputtering più stabile e raggiunge le condizioni sperimentali di base dello sputtering di magnetron in un periodo di tempo molto breve. Fornisce DC / RF due tipi di opzioni di alimentazione sputtering che consentono lo sputtering di sostanze conduttive o non conduttive sul campione e migliorano le prestazioni di deposizione fisica da vapore (PVD). È anche eccellente per il trattamento superficiale e il rivestimento.  È facile da usare e anche facile da usare.

Pompa del vuoto e refrigeratore sono inclusi.

 


Parametro

Gruppo pompa  per  vuoto _

( necessario olio pompa per  vuoto  rotativa + ( o  il free  ) gruppo pompa turbomolecolare 

Velocità di  pompaggio rotativo  _

50 Hz: 16 / h (4,4 L/s)/ 60 Hz: 19,2 /h (5,2 L/s) 

Velocità di   pompaggio molecolare _

300 litri/ sec

Limite di vuoto 

5x10 -5 Pa

Pressione  di esercizio

0,5-5 Pa

Passare l' aspirapolvere 

>10 min(10 -3 Pa)

 Misuratore di vuoto

Campo di misura dall'atmosfera a  1*10 Pa

Controllo del gas 

 Regolatore flusso gas  _ _

Dimensioni della camera 

φ260*200mm (altezza)  m etallo

Sorgente  bersaglio Magnetron  _ _

 Dimensione target φ 50 *3mm(Cu)/ fonte target sostanza  magnetica debole / m ateriali

M etodo operativo 

Manuale di istruzioni l

Peso / taglia

100 kg/610 mm di lunghezza x 420 mm di larghezza x 490 mm di altezza 

Alimentazione  _ _

CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz

Consumo energetico  _

<3000W

 M etodo di raffreddamento

 Raffreddamento ad aria ( pompa ) raffreddamento ad acqua  ( bersaglio polverizzazione  )

Garanzia

Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vita 


Sputter Coater RF

Magnetron Sputter Coater
Spalmatrice sottovuoto
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