Vuoto Magnetron Ion Sputtering C oating Coater per
Semiconduttori e batteria
introduzione
Magnetron Ion Sputtering Coater (modello SD900M) è ideale e progettato per la preparazione di campioni SEM in laboratorio. È ampiamente utilizzato per rivestire campioni SEM non conduttivi o sensibili al calore con Au per una migliore imaging. È anche eccellente per il trattamento superficiale ed evita danni al campione di substrato.
Risultato del rivestimento Immagine campione al SEM (per modello SD-900M) EPTFE (Extended Poly Tetra Fluoro Ethylene)
Basso vuoto, può essere raggiunto rapidamente quando si utilizza una pompa del vuoto adeguata entro 5 minuti. Genera molto meno calore ed evita danni al plasma al campione di substrato. È facile da usare e facile da usare.
La pompa del vuoto è inclusa. Il refrigeratore è opzionale.
Parametro
Gruppo pompa per vuoto _ |
( necessario olio ) pompa del vuoto rotativa _ |
Velocità di pompaggio rotativo _ |
50 Hz : 8 m³ / h ( 2 . 2 L/s)/ 60 Hz : 9. 6 m³ / h ( 2 . 6 L/s) |
Limite di vuoto |
2 pa |
Corrente massima di sputtering |
100 mA |
Pressione di esercizio |
20 Pa - 8 Pa |
Tempo di passare l'aspirapolvere |
<5 minuti ( 2 Pa) |
Misuratore di vuoto |
Campo di misura dall'atmosfera a 2*10 -2 mbar |
Dimensioni della camera |
Φ 15 0* 12 0mm (altezza) vetro al quarzo antigraffio |
Sorgente bersaglio Magnetron _ _ |
Dimensione target φ50*0.1mm(Au) / t sorgente target: Au,Ag,Pt |
M etodo operativo |
Manuale di istruzioni l |
Peso / taglia |
45 kg/ 36 0 mm di lunghezza x 30 0 mm di larghezza x 38 0 mm di altezza |
Alimentazione _ _ |
CA 110 V 60 Hz o CA 220 V 50 Hz |
Consumo energetico _ |
< 1500 W |
Metodo di raffreddamento |
Raffreddamento ad acqua (opzionale) |
Garanzia |
Garanzia limitata di un anno con supporto del prodotto a vita |